ABB OA-ICOS 气体分析仪采用离轴积分腔输出光谱(OAICOS)技术,能够高精度、高灵敏度地测量HF、HCL、NH3及H2O等气体,适用于半导体晶圆厂的工艺流程检测、气相沉积室监测及FOUP监测。其多气体配置、亚ppb级浓度测量能力及优化的数据处理使其具备高性能和高安全性,支持Modbus TCP输出和远程控制功能,操作简便,维护需求低。
• 支持 HF、HCI、NH3 的单气体或多气体配置
• 提供高精度、准确的 H2O 测量结果
• 提供 0-5V 和 4-20 mA 模拟输出(标配),可选Modbus TCP
• 优化数据处理,在测量亚 ppb 级别浓度时,实现优异性能
• 提供触控数字显示屏,显示气体浓度和分析仪的状态
• 提供主要密码保护,确保分析仪和数据安全
• 优化的零气性能,确保可靠地确认过程事件
• 提供可定制的校准套件和性能认证文件包
• 坚固耐用;所需的维护工作少且花费较低
• 可轻松更换长期受到污染的部件(过滤器)和正常老化部件(泵隔膜)
• 服务工程师可现场诊断并更换其他大多数部件
• 镜面清洁可现场进行,无需在工厂费时维修
项目(气体) | NH₃ | H₂O |
---|---|---|
精度 (1σ) | <1ppb (1秒) <0.3 ppb (10秒) <0.1 ppb (100秒) | <50 ppm (1秒) <20 ppm (10秒) <10 ppm (100秒) |
检测限 (LOD) | 0.3 ppb (100秒) | 50 ppm (100秒) |
准确性 * | ±0.3 ppb 或读数的5%,以较高者为准 | >7,000 ppm = 1% FSD |
不同分析仪的结果差异 (相对于平均值,10秒) | ±0.4 ppb 或读数的5%,以较高者为准 | ≤1000 ppm = ±10% |
线性测量范围 | 高达 10,000 ppb | 高达 30,000 ppm |
样品流量 (ppm) | 1.4-2.4 | |
响应时间 (T₉₀, T₉₉) | 10秒 |
项目(气体) | HCl** | HF | H₂O |
---|---|---|---|
精度 (1σ) | <0.3 ppb (1秒) <0.1 ppb (10秒) <0.035 ppb (100秒) | <0.1 ppb (1秒) <0.05 ppb (10秒) <0.025 ppb (100秒) | <25 ppm (1秒) <10 ppm (10秒) <5 ppm (100秒) |
检测限 (LOD) | 0.1 ppb (100秒) | 0.075 ppm (100秒) | 25 ppm (100秒) |
准确性 * | ±0.15 ppb 或读数的5%,以较高者为准 | ±0.1 ppb 或读数的5%,以较高者为准 | >7000 ppm = 1% FSD |
不同分析仪的结果差异 (相对于平均值,10秒) | ±0.2 ppb 或读数的5%,以较高者为准 | ±0.2 ppb 或读数的5%,以较高者为准 | ≤ 1000 ppm = ±10% |
线性测量范围 | 高达 2,000 ppb | 高达 2,000 ppb | 高达 30,000 ppm |
样品流量 (ppm) | 1.1-1.9 | ||
响应时间 (T₉₀, T₉₉) | 25秒 | 25秒 |
* 适用于典型的半导体晶圆厂,在设定的19°C和23°C温度范围内,在至少1小时内,变化范围在±1°C。
** HCl测量仅适用于GLA231-HFHC型号的分析仪。