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ABB OA-ICOS™ GLA231

ABB OA-ICOS™ GLA231

ABB OA-ICOS 气体分析仪采用离轴积分腔输出光谱(OAICOS)技术,能够高精度、高灵敏度地测量HF、HCL、NH3及H2O等气体,适用于半导体晶圆厂的工艺流程检测、气相沉积室监测及FOUP监测。其多气体配置、亚ppb级浓度测量能力及优化的数据处理···...
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详情介绍

ABB OA-ICOS 气体分析仪采用离轴积分腔输出光谱(OAICOS)技术,能够高精度、高灵敏度地测量HF、HCL、NH3及H2O等气体,适用于半导体晶圆厂的工艺流程检测、气相沉积室监测及FOUP监测。其多气体配置、亚ppb级浓度测量能力及优化的数据处理使其具备高性能和高安全性,支持Modbus TCP输出和远程控制功能,操作简便,维护需求低。


ABB OA-ICOS GLA231在线ICOS方法酸碱分析仪(离轴激光)

 

功能和优势


• 支持 HF、HCI、NH3 的单气体或多气体配置

• 提供高精度、准确的 H2O 测量结果

• 提供 0-5V 和 4-20 mA 模拟输出(标配),可选Modbus TCP

• 优化数据处理,在测量亚 ppb 级别浓度时,实现优异性能

• 提供触控数字显示屏,显示气体浓度和分析仪的状态

• 提供主要密码保护,确保分析仪和数据安全

• 优化的零气性能,确保可靠地确认过程事件

• 提供可定制的校准套件和性能认证文件包

• 坚固耐用;所需的维护工作少且花费较低

• 可轻松更换长期受到污染的部件(过滤器)和正常老化部件(泵隔膜)

• 服务工程师可现场诊断并更换其他大多数部件

• 镜面清洁可现场进行,无需在工厂费时维修

 

技术参数

GLA231-EAA

项目(气体)NH₃H₂O
精度 (1σ)<1ppb (1秒)
<0.3 ppb (10秒)
<0.1 ppb (100秒)
<50 ppm (1秒)
<20 ppm (10秒)
<10 ppm (100秒)
检测限 (LOD)0.3 ppb (100秒)50 ppm (100秒)
准确性 *±0.3 ppb
或读数的5%,以较高者为准
>7,000 ppm
= 1% FSD
不同分析仪的结果差异
(相对于平均值,10秒)
±0.4 ppb
或读数的5%,以较高者为准
≤1000 ppm
= ±10%
线性测量范围高达 10,000 ppb高达 30,000 ppm
样品流量 (ppm)1.4-2.4
响应时间 (T₉₀, T₉₉)10秒

GLA231-HFHC & HF

项目(气体)HCl**HFH₂O
精度 (1σ)<0.3 ppb (1秒)
<0.1 ppb (10秒)
<0.035 ppb (100秒)
<0.1 ppb (1秒)
<0.05 ppb (10秒)
<0.025 ppb (100秒)
<25 ppm (1秒)
<10 ppm (10秒)
<5 ppm (100秒)
检测限 (LOD)0.1 ppb (100秒)0.075 ppm (100秒)25 ppm (100秒)
准确性 *±0.15 ppb
或读数的5%,以较高者为准
±0.1 ppb
或读数的5%,以较高者为准

>7000 ppm

= 1% FSD

不同分析仪的结果差异
(相对于平均值,10秒)
±0.2 ppb
或读数的5%,以较高者为准
±0.2 ppb
或读数的5%,以较高者为准
≤ 1000 ppm
= ±10%
线性测量范围高达 2,000 ppb高达 2,000 ppb高达 30,000 ppm
样品流量 (ppm)1.1-1.9

响应时间 (T₉₀, T₉₉)25秒25秒

* 适用于典型的半导体晶圆厂,在设定的19°C和23°C温度范围内,在至少1小时内,变化范围在±1°C。
** HCl测量仅适用于GLA231-HFHC型号的分析仪。

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