先进化学过滤技术助力半导体AMC防控
- 2024-07-11
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- 深圳市亿天净化技术有限公司
AMC是影响半导体制程的重要因素,主要表现为表面分子污染,这是由气态分子和特定表面作用而形成非常薄的化学膜,化学膜通常改变产品表面的物理、电子、化学和光学特性而导致质量缺陷,造成产品良品率下降。AMC种类复杂、来源广泛、控制难度高。
AMC控制方案
化学过滤器用于去除AMC。在洁净室的净化空调系统中,包括新风处理机组(MAU)配置化学过滤器,风机过滤单元(FFU)上安装化学过滤器,以保持大环境、微环境中合格的空气质量。
此外为了满足各生产工序设备维修的需要,当其他的系统不能经济合理地提供所需要的净化处理时,设置移动式深层空气化学过滤器,去除局部高浓度的污染气体,避免高浓度的污染气体进入洁净室循环风系统。
采用先进化学过滤技术去除AMC
化学反应:滤料化学反应
污染物同吸附剂中的化学物质发生化学反应,从而达到去除污染物的目的
该过程非常特殊,取决于吸附剂和被吸附物的化学性质
该过程基本速度很快,并且是不可逆的
可以将有毒有害气体化学氧化为无害的固体
滤料特点
去除效率高,过滤效率可达 95% 以上
化学反应式过滤原理,无有毒物质释放
产品种类多,能满足各类气态污染物过滤需求
性能稳定,处理能力强,反应迅速
无细菌和微生物滋生
化学过滤器采用了先进的材料和技术,确保了对AMC的高效去除。这些过滤器不仅具备出色的吸附能力,而且能够根据污染物的种类和浓度进行精确调节,以适应不同工艺阶段的需求。
化学过滤器特点:
安装方便,操作简单;
高效过率,比传统活性炭更广谱去除气态分子污染物;
低阻力,无递增压损,节能环保;
使用寿命长,通过化学吸附法去除气态污染物,气态污染物与滤料发生化学反应,有效杜绝空气环境的二次污染,永久去除气态污染物。
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